*高剪切分散機,*實驗室研磨分散機,科研*藥劑均質(zhì)機

一、*的簡介

*，白色固體或粉末狀的兩性氧化物，分子量：79.9，是一種白色無機顏料，具有無毒、較佳的不透明性、較佳白度和光亮度，被認為是性能較好的一種白色顏料。鈦白的粘附力強，不易起化學(xué)變化。廣泛應(yīng)用于涂料、塑料、造紙、印刷油墨、化纖、橡膠、化妝品等工業(yè)。它的熔點很高，也被用來制造耐火玻璃，釉料，琺瑯、陶土、耐高溫的實驗器皿等。

同時，*有較好的紫外線掩蔽作用，常作為防曬劑摻入紡織纖維中，超細的*粉末也被加入進防曬霜膏中制成防曬化妝品。

*可由金紅石用酸分解提取，或由四氯化鈦分解得到。*性質(zhì)穩(wěn)定，大量用作油漆中的白色顏料，它具有良好的遮蓋能力，和鉛白相似，但不像鉛白會變黑；它又具有鋅白一樣的持久性。

二、*的研磨

生產(chǎn)出來的*有時品質(zhì)不高，粒徑為微米級，在后期應(yīng)用過程中需要進一步的研磨細化粒徑，結(jié)合多家客戶案例，*XMD2000系列高剪切膠體磨進行研磨細化處理，一般循環(huán)處理，粒徑可至納米級。XMD2000系列高剪切膠體磨，有著18000rpm的轉(zhuǎn)速，三層錯齒結(jié)構(gòu)的高精密磨頭，研磨細化效率高。

三、*膠體磨介紹：

1、SID膠體磨具有設(shè)計緊湊、實用方便，外形美觀、密封良好、性能穩(wěn)定、操作方便、裝修簡單、經(jīng)久耐用、適應(yīng)范圍廣、生產(chǎn)效益高等特點、是處理精細物料理想的加工設(shè)備。

（洽談：1-3-3-3-8-6-8-4-9-5-1）

2、SID高剪切膠體磨是對流體物料進行精細加工的機械。它綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能，具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。物料通過加工后，粒度達2～50微米，均勻度達90%以上，是超微粒加工的理想設(shè)備。

3、該機適用于制藥、食品、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎、乳化、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的*水平。

四、影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

1、膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）

3、物料在研磨腔體的停留時間，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）

4、循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）

六、超高速膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

1、轉(zhuǎn)速和剪切速率：納米膠體磨，可選擇德國機械密封，轉(zhuǎn)速可以達到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨，可選擇機械密封一般3000轉(zhuǎn)，大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當于前者是后者的2-3倍

2、膠體磨頭和間距：納米膠體磨，可以選擇六種不同的模塊頭，實現(xiàn)多種功能，如三級乳化模塊，超高速模塊，XM膠體模塊，GMO膠體模塊，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊。間距可調(diào)，可實現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭，粒徑細度有限，100微米以下較困難，重復(fù)性差

 3、機械密封：納米膠體磨，雙機械密封，易于清洗，將泄漏降至低，可24小時不停運轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨，單機械密封或軸封，泄漏故障率高，產(chǎn)品泄漏進入馬達，造成馬達燒毀

七、XMDS2000系列*高剪切分散機型號表

以下為型號表供參考：