自動光譜橢偏儀SE-L型
自動光譜橢偏儀SE-L型概述:
是一款科研級全自動高精度光譜橢偏儀,集眾多頤光 科技技術(shù)于一體,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù),配置全自動測量 模塊。通過橢偏參數(shù)、 透射/反射率等參數(shù)的測量,快速實現(xiàn)光 學參數(shù)薄膜和納米結(jié)構(gòu)的表征分析。 ——————————————————————————
產(chǎn)品特點:
產(chǎn)品應用: SE-L 型光譜橢偏儀廣泛應用于鍍膜工藝控制、tooling校正等測量應用, 實現(xiàn)光學薄膜、納米結(jié)構(gòu)的光學常數(shù)和幾何特征尺寸快速的表征分析: 1、 半導體:半導體薄膜結(jié)構(gòu)(如:介電薄膜、金屬薄膜、高分子、光刻膠、硅、PZT膜,激光二極管GaN和AlGaN、透明的電子器件等),半導體周期性納米結(jié)構(gòu)(如納米光柵,套刻誤差,T型相變存儲器等); 2、 平板顯示:TFT、OLED、等離子顯示板、柔性顯示板等; 3、 光伏太陽能:光伏材料(如Si3N4、Sb2Se3、Sb2S3、CdS等)反射率,消光系數(shù)測量,膜層厚度及表面粗糙度測量等; 4、 生物和化學工程:有機薄膜、LB膜、SAM膜、蛋白子分子層、薄膜吸附、表面改性處理等。 5、 塊狀材料分析:固體(金屬、半導體、介質(zhì)等)或液體(純凈物或混合物)的折射率n和消光系數(shù)k表征,玻璃新品研發(fā)和質(zhì)量控制等。 |