四合一濕磨機,四合一高速濕磨機,二合一濕磨機是 由超高速濕磨機,超高速分散機組合而成的高科技產品。,濕磨機有三級 ,分散機一級 所以叫四合一或者二合一濕磨機
由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒（或稱為轉子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產生）加壓產生向下的螺旋沖擊力，透過濕磨機定、轉齒之間的間隙（間隙可調）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
決定研磨效果的有幾個主要因素：被研磨物體材料的性質，磨料的物理特性，粘結劑的粘結強度，研磨壓力及研磨的運動速度，研磨的時間。
另外，研磨操作遵守循序漸進的原則，研磨時，按照磨料的硬度，從硬到軟逐級順序研磨，或按照磨料的粒度，從大到小逐次順序進行。否則，不但效率降低而且無法獲得理想的表面狀態(tài)。
IKN濕法磨是超細粉碎機械中有發(fā)展前途且能量利用率zui高的超細粉磨設備，它與普通研磨機在機理上的不同點是：濕磨機的輸入功率直接高速推動研磨介質來達到磨細物料的目的，IKN濕法磨內置高速研磨分散工作盤，IKN濕法磨的高速回轉使研磨介質和物料在整個工作腔體內做不規(guī)則的翻滾和離心運動，使研磨介質之間產生相互撞擊和研磨的雙重作用，使物料磨得更細并得到均勻分散。與普通研磨機相比，IKN濕磨機具有如下特點：
(1) 高轉速和高介質填充率使?jié)衲C獲得ji高的功率密度，從而使細顆粒物料的研磨時間大大縮短，能量利用率達到zui高；
(2) 采用小尺寸研磨介質，大大提高了微細物料的研磨效率，并可高效地磨細物料至1μm以下，甚至是納米級；
(3) 產品粒度分布均勻且容易調節(jié)，能沿結晶面解離，并ji易獲得超細、低污染的產品；
(4) 結構簡單，操作容易，機械振動小，維修簡單且價格低廉。
四合一濕磨機,四合一高速濕磨機,二合一濕磨機
第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽，定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離，在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。這樣的設計可以保障物料初始顆粒較大時，可以順暢進入研磨分散機腔體，通過高速旋轉的精細度遞升磨頭，zui終得到微納米級的物料顆粒。
粉碎室設有三道磨碎區(qū)，一級為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三層為超微磨碎區(qū)，通過調整定、轉子的間隙，能有效地達到所需的超微粉碎效果（也可循環(huán)加工）。
混合區(qū)：首先將物料通過混合攪拌裝置進行高速混合，在混合過程中用螺旋混合漿葉使物料在高速運轉中的到充分混合均質后送料給下道工藝；
剪切區(qū)：物料進入剪切區(qū)后，由于上道工序只把物料進行混合，沒有把物料進行大顆粒破碎，這個問題由高剪切機來完成，該剪切區(qū)由三層數百條刀槽組成，將大的粘團結塊等易碎顆粒進行剪切破碎。
研磨區(qū)：研磨區(qū)是由凹凸研磨分散機組成，轉定子切有許多中齒及細齒組成，將已剪切的小顆粒進行深化研磨，研磨時可調距離為0.01~3mm；
1、有較強的混合、粉碎、研磨、輸送功能；
2、可使用較硬的各類易碎顆粒；
3、 可同過調節(jié)定轉子間隙進而調節(jié)循環(huán)研磨所需時間；
4、 定、轉子間歇可以調節(jié)，調節(jié)距離為0.01~3mm，可降低啟動負荷，從而減少能耗
5、 轉、定子材料可選用2cr13 9cr18 2205進行氮化處理貨滲碳化鎢處理。
三級錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。此款立式研磨分散機比普通的研磨分散機的速度達到3倍以上,的轉速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。
第2級由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子、轉子和批次式機器的工作頭設計的不同主要在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以前的經驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出zui終產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMXD2000系列的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
上海IKN技術，*創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切濕磨機進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎上，將單一的濕磨機磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的濕磨機，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的濕磨機也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
四合一濕磨機,四合一超高速濕磨機,二合一濕磨機
