PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子，就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng)；借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜；具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質(zhì)量好、針孔較少、不易龜裂等優(yōu)點；
1200℃高真空PECVD系統(tǒng)通過滑動爐體來實現(xiàn)快速的升降溫，配置不同的真
主要技術(shù)參數(shù)：
爐體結(jié)構(gòu) | 整機采用SUS304不銹鋼材質(zhì)，流線型外觀，斷熱式結(jié)構(gòu)； *真空吸附成型的優(yōu)質(zhì)高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛，保溫性能好 爐子底部裝有一對滑軌，移動平穩(wěn) 爐子可以手動從一端滑向另一端，實現(xiàn)快速的加熱和冷卻 爐蓋可開啟，可以實時觀察加熱的物料 |
電源 | 電壓：AC220V 50/60Hz；功率：4KW |
爐管 | 高純石英管，高溫下化學(xué)穩(wěn)定性強，耐腐蝕，熱膨脹系數(shù)極小 尺寸：Φ60*1200mm |
法蘭及支撐 | SUS304不銹鋼快速法蘭，通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空 一個卡箍就能完成法蘭的連接，放、取物料方便快捷 可調(diào)節(jié)的法蘭支撐，平衡爐管的受力支撐 包含進氣、出氣、真空抽口針閥，KF密封圈及卡箍組合 |
加熱系統(tǒng) | 加熱元件采用優(yōu)質(zhì)合金絲0Cr27Al7Mo2，表面負荷高、經(jīng)久耐用 加熱區(qū)長度：300mm 恒溫區(qū)長度：150mm 工作溫度：≤1150℃ zui高溫度：1200℃ 升溫速率：10℃/min |
溫控系統(tǒng) | 日本富士溫控儀表，64段控溫程序，可分步、分段
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混氣系統(tǒng) | 三路質(zhì)量流量計：數(shù)字顯示、氣體流量自動控制 內(nèi)置不銹鋼混氣箱，每路氣體管路均配有逆止閥 管路采用不銹鋼管，接口為Φ6卡套 每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥 通過控制面板上的旋鈕來調(diào)節(jié)氣體流量 流量規(guī)格：0~200sccm 流量精度：±1.5% |
高真空真空系統(tǒng) | 采用雙級旋片真空泵+分子泵，極限真空可達4.0*10^-4Pa 復(fù)合真空計，配置電阻規(guī)+電離規(guī) 抽速：110L/S 冷卻：風(fēng)冷 電源:AC220V 50/60Hz |
射頻電源系統(tǒng) | 輸出功率:0-300W 功率穩(wěn)定度：±0.1% 射頻電源頻率:13.56MHz 穩(wěn)定性±0.005% zui大反向功率:120W 射頻電源電子輸出端口:UHF 冷卻:風(fēng)冷 電源:AC187-253V 50/60Hz |
可選配件 | 混氣系統(tǒng),中、高真空系統(tǒng)，各種剛玉、石英坩堝，石英管，計算機控制軟件，無紙記錄儀，氧含量分析儀。 |
